電化學水處理系統(tǒng)介紹
 
電化學水處理系統(tǒng)（HC-WS-SMXEST）系統(tǒng)放置在循環(huán)水回水管道旁路上或直接從冷水塔集水池取水，按循環(huán)水補水水質參數(shù)及濃縮倍率要求設定循環(huán)水量的處理規(guī)模。公司按照模塊化設計HC-WS-SMXEST系統(tǒng)，每個HC-WS-SMXEST模塊由8臺電化學水處理單元組成，處理規(guī)模為400m3/h。


工作過程
HC-WS-SMXEST電化學水處理系統(tǒng)在線不間斷處理循環(huán)水，周期性自動刮垢和排污，清洗周期和清洗時間取決于循環(huán)水水質情況，維持系統(tǒng)中水的化學物質平衡和控制微生物生長。PLC自動控制每天需要清洗的次數(shù)。
清洗流程
PLC控制系統(tǒng)對控制閥閥門給出指令，關閉進出水閥門,HC-WS-SMXEST系統(tǒng)模塊的排污閥門打開，將預先沉淀出來的結垢物質和生物粘泥排出處理單元，并和沖洗水一起排出到沉淀池。大約120秒后，排污閥門關閉，打開進出水閥門,完成一次清洗周期。
HC-WS-SMXEST電化學水處理系統(tǒng)規(guī)格型號
型號 處理量 形式    級數(shù) 適用水質 功率
HC-WS-SMXEST(P) 可調(diào) 平行 二級可調(diào) 硬度一般  水質一般 0.3-1KW可調(diào)
HC-WS-SMXEST(J) 可調(diào) 漸進 二級可調(diào) 硬度較高或者或者反滲透濃水回用 0.3-1KW可調(diào)


電化學原理
單元由帶電極的反應室、進出水管、排污閥門，電源控制柜和維修輔助設備等幾部分組成。



通過直流電流的作用，在反應室內(nèi)壁(陰極)附近形成一個堿性環(huán)境(pH值達到12-13的范圍)，這種強堿性環(huán)境下結垢物質更容易結晶析出。在陽極附近，高達50％的氯離子轉變成游離氯或次氯酸，在陽極附近同時還生成羥基自由基、氧自由基、臭氧和雙氧水，這些物質進一步強化了在反應室內(nèi)的消毒效果，并且不允許包括軍團菌等菌類及微生物的存活。
電控系統(tǒng)  1、自動刮除水垢、排污和清洗。
2、內(nèi)置電導率測試電路，自動適應水質的電導率波動。
根據(jù)水蒸發(fā)濃縮過程中帶來的水中碳酸鈣飽和指數(shù)(LSI)的變化，將碳酸鈣控制在過飽和狀態(tài)，在管道和設備內(nèi)壁形成很薄的一層保護層，從而保護管道和設備不和冷卻水中的溶解氧接觸，防止腐蝕現(xiàn)象的發(fā)生；LSI控制軟件可以確保換熱器水側結垢厚度≤0.1mm,確保熱交換器熱交換效率在5年內(nèi)保持在設計值的99%以上！并且不需要清洗！達到提高生產(chǎn)效率的目的。
整個電解過程都是利用本源物質．不產(chǎn)生污染，屬于綠色環(huán)保型的水處理方法，基本反應如下。
在反應室內(nèi)壁(陰極)的主要化學反應： 在陽極的主要化學反應：
Ca2+鈣離子可能形成氫氧化鈣：
Ca(OH)2(垢)   碳酸鈣：CaCO3(垢)
2H2O + 2e-                H2 +2OH-
CO2  + OH-           HCO3-
HCO3-+ OH-        CO32-+ H2O

4HO-         O2 + 2H2O + 4e-
游離氯    Cl-- e-               Cl
氯氣      2Cl-       Cl2 + 2e-
次氯酸    Cl2 + H2O       HClO + HCl
臭氧      O2+ 2OH-- 2e-    O3 + H2O
過氧化氫  2H2O- 2e-                 H2O2 + 2H+
羥基自由基 H2O22OH
氧自由基  2H2O - 2e-               OO + 2H+

設備運行控制技術
利用朗格里爾飽和指數(shù) -LSI預測污垢
循環(huán)水采用化學藥劑處理的目標是讓所有的物質都處于溶解平衡狀態(tài)，并且用朗格里爾飽和指數(shù) –LSI進行循環(huán)水結垢預測，同理，電化學采用水中礦物去除技術保持循環(huán)水中礦物質的平衡狀態(tài)，故此同樣可采用朗格里爾飽和指數(shù) –LSI進行循環(huán)水結垢預測來管理和控制設備的運行狀態(tài)，達到控制循環(huán)水結垢的目的。
采用電阻測試技術控制水垢預沉積的排除
在EST電解水處理器中的水垢預沉積過程，發(fā)生在反應室內(nèi)壁附近。由于使用了電阻測試系統(tǒng)，預沉積的水垢只在反應室內(nèi)壁附近沉積很薄的一層。通過這個系統(tǒng)，反應室內(nèi)壁上會一直殘留一薄層水垢，這有利于提高水垢的沉積效率。同時，系統(tǒng)為了確保水垢不會太厚，設計了自動刮刀來定期將水垢刮掉排出反應室。

在線電導和pH值監(jiān)測控制技術

SCP自選附加設備:該系統(tǒng)的功能在于阻止水垢結成晶體。SCP包括一個犧牲電極，電極以精確控制的方式釋放金屬離子。SCP電解反應室通過水管與EST系統(tǒng)連接，但是電SCP自選附加設備電力控制則由安裝在冷卻水系統(tǒng)補加管道上的水流量計來控制。
釋放到水中的離子充當阻垢劑的角色，從而更加有效地防止垢的沉積和防止硅在水中結晶。SCP電解系統(tǒng)包括一個用專門阻止二氧化硅的材料制成的電極。
設備配備在線pH傳感器和pH值調(diào)節(jié)裝置、在線電導檢測系統(tǒng)，及水質調(diào)節(jié)裝置等。

電化學循環(huán)水處理系統(tǒng)